Резисты AZ для Image Reversal/Lift-off
Резисты AZ для Image Reversal/Lift-off от AZ-Electronic Materials (Германия) для преобразования изображений и обратной фотолитографии.
Серия 5200 - резисты на основе новолаков (новолачная фенолформальдегидная смола) подходят для преобразования изображений:
Номер по каталогу |
Фасовка |
AZ 5214 E |
0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 / 5 л |
Резист TI 35E специально разработан для технологии преобразования изображения, для жидкостной химической обработки:
Номер по каталогу |
Фасовка |
TI 35 E |
0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 л |
Резист TI 35 ES подходит для технологии преобразования изображения, для сухого травления.
Номер по каталогу |
Фасовка |
TI 35 ES |
0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 л |
Резист TI xLift подходит для последовательной обратной фотолитографии толстых и очень толстых осажденных слоев:
Номер по каталогу |
Фасовка |
TI xLift |
0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 л |
Резисты nLOF серии 2000 подходят для обратной фотолитографии, для пленок толщиной 2-7 мкм, для работы с проявителями, содержащими тетраметиламммония гидроксид (TMAH):
Номер по каталогу |
Фасовка |
AZ nLOF 2070 |
0,1 / 0,25 / 0,5 / 1 / 3,78 л |
AZ nLOF 2070 2,0 мкм |
0,1 / 0,25 / 0,5 / 1 / 3,78 л |
AZ nLOF 2070 3,5 мкм |
0,1 / 0,25 / 0,5 / 1 / 3,78 л |
AZ nLOF 2020 2,0 мкм |
0,1 / 0,25 / 0,5 / 1 / 3,78 л |
AZ nLOF 2035 3,5 мкм |
0,1 / 0,25 / 0,5 / 1 / 3,78 л |
Подробнее:
Брошюра. Общая информация о продукции AZ (анг.)
AZ Фоторезисты (анг.)
Чтобы заказать товары из этой категории, пожалуйста, пришлите заказ по электронной почте Этот адрес электронной почты защищён от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра., либо по телефонам +7 (383) 363-85-90, +7 (499) 346-39-14.
|