Резисты AZ для Image Reversal/Lift-off

Резисты AZ для Image Reversal/Lift-off от AZ-Electronic Materials (Германия) для преобразования изображений и обратной фотолитографии.

 

Серия 5200 - резисты на основе новолаков (новолачная фенолформальдегидная смола) подходят для преобразования изображений:

 

Номер по каталогу	Фасовка
AZ 5214 E	0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 / 5 л

 

 

Резист TI 35E специально разработан для технологии преобразования изображения, для жидкостной химической обработки:

 

Номер по каталогу	Фасовка
TI 35 E	0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 л

 

 

Резист TI 35 ES подходит для технологии преобразования изображения, для сухого травления.

 

Номер по каталогу	Фасовка
TI 35 ES	0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 л

 

 

Резист TI xLift подходит для последовательной обратной фотолитографии толстых и очень толстых осажденных слоев:

 

Номер по каталогу	Фасовка
TI xLift	0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 л

 

 

Резисты nLOF серии 2000 подходят для обратной фотолитографии, для пленок толщиной 2-7 мкм, для работы с проявителями, содержащими тетраметиламммония гидроксид (TMAH):

 

Номер по каталогу	Фасовка
AZ nLOF 2070	0,1 / 0,25 / 0,5 / 1 / 3,78 л
AZ nLOF 2070 2,0 мкм	0,1 / 0,25 / 0,5 / 1 / 3,78 л
AZ nLOF 2070 3,5 мкм	0,1 / 0,25 / 0,5 / 1 / 3,78 л
AZ nLOF 2020 2,0 мкм	0,1 / 0,25 / 0,5 / 1 / 3,78 л
AZ nLOF 2035 3,5 мкм	0,1 / 0,25 / 0,5 / 1 / 3,78 л

 

Подробнее:

Брошюра. Общая информация о продукции AZ (анг.)

AZ Фоторезисты (анг.)

 

Чтобы заказать товары из этой категории, пожалуйста, пришлите заказ по электронной почте Этот адрес электронной почты защищен от спам-ботов. Для просмотра адреса в вашем браузере должен быть включен Javascript., либо по телефонам +7 (383) 363-85-90, +7 (499) 346-39-14.