Россия

lab@noykem.ru

Москва: (499) 346-39-14,  (495) 77-46-319   Новосибирск: (383) 363-85-90 (многоканальный)

КАТАЛОГ

Наша задача - обеспечивать Ваши лаборатории качественной продукцией

Позитивные фоторезисты AR-P (Allresist, Германия)

Позитивные фоторезисты AR-P от Allresist (Германия).

 

AR-P 1210, 1220, 1230 для нанесения методом  распыления, для различных применений с высоким качеством разрешения. Экспонирование - широкополосный УФ, i-линия, g-линия. Хорошая адгезия, гладкая поверхность. Сочетание новолака и нафтохинона диазида. Безопасный растворитель PGMEA, а также метилэтилкетон.

Параметры AR-P 1210 AR-P 1220 AR-P 1230
Использование

для равномерного покрытия для вертикальных структур

для травления склонов под углом 54 °

для плоских пластинчатых поверхностей
Толщина слоя  4 - 10 мкм  3 - 8 мкм  0.5 - 1 мкм
Разрешение  1  мкм  1  мкм   1  мкм 
Проявители AR 300-44 AR 300-44  AR 300-44 
Растворители AR 300-76, AR 300-71 AR 300-76, AR 300-71  AR 300-76, AR 300-71

 

Подробнее: 

Позитивные / Негативные фоторезисты AR-P 1200 / AR-N 2200 (анг.)

 

Позитивные резисты AR-P 3110, 3120, 3170 с усиленной адгезией и высоким разрешением, для производства маски и мелких делений шкалы. Экспонирование - широкополосный УФ, i-линия, g-линия. Высокая фоточувствительность, высокое разрешение. Сильная адгезия к стеклянным/хромированным поверхностям в процессах влажного химического травления, устойчивы к травлению плазмой. Сочетание новолака и нафтохинона диазида. На основе безопасного растворителя PGMEA.

Параметры AR-P 3110 AR-P 3120 AR-P 3170
Использование

производство шаблонов

производство шаблонов

производство шаблонов, можно использовать для лазерной интерференционной литографии
Толщина слоя, при 4000 об/мин  1000 нм  550 нм  120 нм
Разрешение  0,5  мкм  0,4  мкм   0,4  мкм 
Промотор адгезии AR 300-80 AR 300-80 AR 300-80
Проявители AR 300-35, AR 300-47 AR 300-35, AR 300-47 AR 300-35, AR 300-47
Разбавитель AR 300-12 AR 300-12 AR 300-12
Растворители AR 300-76, AR 300-73 AR 300-76, AR 300-73 AR 300-76, AR 300-73

 

Подробнее: 

Позитивные фоторезисты AR-P 3100 (анг.)

 

Позитивные резисты серии AR-P 3200 - жидкие резисты с высокой вязкостью для получения толстых пленок. Эти резисты хорошо подходят для покрытия краев топографий на сложных поверхностях пластин (дают хорошее выравнивание). Позволяют генерировать рисунок резиста с вертикальным профилем. Толстослойные резисты AR-P 3200 обеспечивают высокую степень разрешения рисунка.

 

Параметры AR-P 3210 AR-P 3220 AR-P 3250
Толщина слоя, до  40 мкм  1000 мкм  20 мкм
Разрешение  0,5  мкм  0,4  мкм   0,4  мкм 
Промотор адгезии AR 300-80 AR 300-80 AR 300-80
Проявители AR 300-35, AR 300-47 AR 300-35, AR 300-47 AR 300-35, AR 300-47
Разбавитель AR 300-12 AR 300-12 AR 300-12
Растворители AR 300-76, AR 300-73 AR 300-76, AR 300-73 AR 300-76, AR 300-73

 

 

Позитивные резисты серии AR-P 3500 / 3500 T - жидкие резисты для широкого диапазона процессов, предназначены для производства интегральных микросхем. Высокая фоточувствительность, высокое разрешение, очень хорошие адгезивные свойства к металлическим и оксидным поверхностям. Экспонирование - широкополосный УФ, i-линия, g-линия. Устойчивы к травлению плазмой, стабильность при температуре до 120°С. Сочетание новолака и нафтохинона диазида. На основе безопасного растворителя PGMEA.

Параметры AR-P 3510 / 3510 Т AR-P 3540 / 3540 Т
Использование Для обработки литографических масок при изготовлении интегральных микросхем Специально разработаны для использования с сильными проявителями на основе TMAH (0,26 n), такими как AR 300-44
Толщина слоя, при 4000 об/мин  2,0 мкм  1,4 мкм
Разрешение  0, 8 / 0,6  мкм  0,7 / 0,5  мкм 
Промотор адгезии AR 300-80 AR 300-80
Проявители AR 300-26, T: AR 300-44 AR 300-26, T: AR 300-44
Разбавитель AR 300-12 AR 300-12
Растворители AR 300-76, T: AR 300-76 AR 300-76, T: AR 300-76

 

Подробнее: 

Позитивные фоторезисты AR-P 3500 (анг.)

 

Позитивные резисты серии AR-P 3700 / 3800 - жидкие позитивные резисты высочайшего разрешения, специально разработанные для производства интегрированных схем высокого разрешения со структурами до микронного диапазона. Высокая чувствительность, высокая контрастность, хорошие адгезивные свойства даже к поверхностям со структурированной поверхностью подложки. Окрашенный резист AR-P 3840 будет подавлять в спектральном диапазоне 340 - 450 нм эффект стоячих волн и рассеянного излучения на сильно отражающих поверхностях. Экспонирование - широкополосный УФ, i-линия, g-линия. Устойчивы к травлению плазмой, стабильность при температуре до 120°С. Сочетание новолака и нафтохинона диазида. На основе безопасного растворителя PGMEA.

 

Параметры AR-P 3740 AR-P 3840
Особенность    Окрашенный, для предотвращения эффекта стоячих волн
Толщина слоя, при 4000 об/мин  1,4 мкм  1,4 мкм
Разрешение  0, 4 мкм  0,4 мкм 
Контраст  6,0  6,0
Промотор адгезии AR 300-80 AR 300-80
Проявители AR 300-47, T: AR 300-26 AR 300-47, T: AR 300-26
Разбавитель AR 300-12 AR 300-12
Растворители AR 300-76, T: AR 600-71 AR 300-76, T: AR 600-71

 

Подробнее: 

Позитивные фоторезисты AR-P 3700-3800 (анг.)

Клетки - это интересно!

Тромбоциты участвуют в свертывании крови. Формируют кровяной сгусток. На место ранения первыми попадают именно тромбоциты, которые под влиянием ферментов и гормонов начинают слипаться, образовывая тромб. Этот сгусток закупоривает рану и останавливает кровотечение. А еще тромбоциты секретируют факторы роста, стимулирующие заживление ран.

НАШИ ПРОЕКТЫ

 

КУЛЬТУРАЛЬНАЯ ПОСУДА

ВИДЕО  ОБЗОР ТОВАРОВ  КАТАЛОГ

 


 

КРИОГЕННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ

ВИДЕО ОБЗОР ТОВАРОВ КАТАЛОГ

ЗАПОЛНИТЬ КРИОАНКЕТУ

 


 

БИОАНАЛИТИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ

ОБЗОР   КАТАЛОГ  ПРИМЕНЕНИЕ

 


 

КОМПЛЕКСНЫЕ ПРЕДЛОЖЕНИЯ

 

 

для центров ЭКО:   сайт   прайс

           для ЦГиЭ:   сайт   прайс

 


 

ОПТОВЫЕ ПОСТАВКИ РЕАКТИВОВ

Касторовое масло LUVOTIX R

1,4-Нафтохинон

Корзина

Итоговая сумма:   0.00 Руб.
В корзину
www.noykem.ru
lab@ noykem.ru
(499) 346-39-14, (495) 77-46-319
(383) 363-85-90 (многоканальный)

 


Copyright (с) 2013 - 2019 ООО "Нойкем"